KRI 射頻離子源輔助沉積鍍制385nm紫外帶通濾光片

時間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：50

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• 上海伯東美國 HVA 真空閥門在真空退火爐中的應用

  真空退火爐主要適用于不銹鋼拉深件如水暖器材/ 水脹件/ 醫(yī)療器械/ 不銹鋼釘/ 不銹鋼鏍絲/ 壓鉚件/ 不銹鋼軸承/ 表殼/ 表帶/ / 微型軸/ 自攻自鉆/ 餐具等不銹鋼制品在保護氣氛控制下進行連續(xù)光亮退火/ 固溶/ 退磁及不銹鋼淬火處理的多用爐.??處理后產(chǎn)品表面光潔, 不氧化, 不脫碳. 具有生產(chǎn)效, 能耗低, 污染少, 操作使用方便, 勞動強度低等優(yōu)點.也可供金屬材料釬

• KRi 離子源 e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?e-beam 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)輔助鍍膜應用上海伯東美國?KRi 考夫曼離子源?KDC 系列, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 離子源增強設計輸出低電流高能量寬束型離子束, 通過同時的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 實現(xiàn)輔助鍍膜 IBAD.?e-beam?電子束蒸

• KRi 大面積射頻離子源應用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

  上海伯東美國?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性（1 σ）達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, 絕緣體, 導體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的部件,

• HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)

  激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計算機和半導體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因