KRI 考夫曼射頻離子源濺射制備微晶硅薄膜

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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詞條說明
KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜
?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長, 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長定位準確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點, 是激光設備應用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在
美國 HVA 真空閥門中國總代理
上海伯東是美國?HVA 高真空和高真空閥門中國總代理!?HVA?是美國大的真空閥門制造商, 在美國有過四十年的歷史, 擁有6萬平方英尺的全自動加工工廠,?HVA?提供高質量, 準確, 客制化的真空閥門. 無論是生產(chǎn)線升級, 還是新設備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟有效的閥門解決方案, 其中高真空閘閥現(xiàn)已廣泛應用于半導體氣體管路和各
上海伯東KRI 離子源在鍺基紅外鍍膜中的應用
? ? 紅外光學薄膜器件作為紅外系統(tǒng)重要組成部分,?已廣泛應用于航空航天、、環(huán)保、分析儀器等各個領域.?在紅外光學應用中,?由于鍺在2～14μm紅外波段內(nèi)有高而均勻的透過率,?是一種的優(yōu)良紅外光學材料.?鍺單晶切片加工成的鍺透鏡及鍺窗和利用鍺單晶透過紅外波長特性制成的各種紅外光學部件廣泛用于各類紅外光學系統(tǒng).?&nbs
KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)