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模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)


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  • 氦質(zhì)譜檢漏儀 CVD 設(shè)備檢漏,滿(mǎn)足第三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)

    氦質(zhì)譜檢漏儀?CVD 設(shè)備檢漏, 滿(mǎn)足*三代半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶(hù)是一家以**化合物半導(dǎo)體光電器件相關(guān)產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, **產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導(dǎo)體芯片. 芯片在生產(chǎn)過(guò)程中使用 CVD 設(shè)備做鍍膜處理, 在鍍膜過(guò)程中需要保持設(shè)備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過(guò) 1E-10 mbrl l/s.CVD?設(shè)備檢漏要

  • KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

    ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過(guò)使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過(guò)膜層后不同波長(zhǎng)光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過(guò)率低, 被譽(yù)為對(duì)人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問(wèn)題, 兼顧了功能性和性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

  • HVA 真空閥門(mén)71000系列, 適用于苛刻的真空環(huán)境, 易于維護(hù)

    說(shuō)到真空閥門(mén), HVA 是繞不開(kāi)的, HVA 真空閥門(mén)是行業(yè)的者. HVA真空閥門(mén)包含HVA 真空矩形閥、HVA 真空閘閥, 真空插板閥、HVA 真空角閥等.?在 HVA 真空閥門(mén)中 71000 系列閥門(mén), 憑借其在 HVA 閥門(mén)中廣為人知的性和性, 使用壽命 > 250,000 cycles 啟閉次數(shù).?HVA?真空閥門(mén)?71000 系列由堅(jiān)固的不繡

  • KRi 大面積射頻離子源應(yīng)用于 12英寸,8英寸 IBE 離子束蝕刻系統(tǒng)

    上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源? RFICP 380, RFICP 220 成功應(yīng)用于 12英寸和 8英寸 IBE? 離子束蝕刻機(jī), 刻蝕均勻性(1 σ)達(dá)到< 1%. 可以用來(lái)刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導(dǎo)體, 絕緣體, 導(dǎo)體等.離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其部件為大面積離子源. 作為蝕刻機(jī)的部件,

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